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半導(dǎo)體工藝化學實驗報告
在當下社會，報告的適用范圍越來越廣泛，報告成為了一種新興產(chǎn)業(yè)。我們應(yīng)當如何寫報告呢？下面是小編為大家收集的半導(dǎo)體工藝化學實驗報告，希望對大家有所幫助。
實驗名稱：硅片的清洗
實驗?zāi)康模?/strong>
1.熟悉清洗設(shè)備
2.掌握清洗流程以及清洗前預(yù)準備
實驗設(shè)備：
1.半導(dǎo)體兆聲清洗機（SFQ-1006T）-1；SC-2
實驗背景及原理：
清洗的目的在于清除表面污染雜質(zhì)，包括有機物和無機物。這些雜質(zhì)有的以原子狀態(tài)或離子狀態(tài)，有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。有機污染包括光刻膠、有機溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。無機污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等，嚴重影響少數(shù)載流子壽命和表面電導(dǎo)；堿金屬如鈉等，引起嚴重漏電；顆粒污染包括硅渣、塵埃、細菌、微生物、有機膠體纖維等，會導(dǎo)致各種缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化學清洗兩種。
我們這里所用的的是化學清洗。清洗對于微米及深亞微米超大規(guī)模集成電路的良率有著極大的影響。SC-1及SC-2對于清除顆粒及金屬顆粒有著顯著的作用。
實驗步驟：
1.清洗前準備工作：
儀器準備：
�、贌那逑础⒏稍�
�、谇逑礄C的預(yù)準備：開總閘門、開空氣壓縮機；開旋轉(zhuǎn)總電源（清洗設(shè)備照明自動開啟）；將急停按鈕旋轉(zhuǎn)拉出，按下旁邊電源鍵；緩慢開啟超純水開關(guān)，角度小于45o；根據(jù)需要給1#、2#槽加熱，正式試驗前提前一小時加熱，加熱上限為200o。本次實驗中選用了80℃為反應(yīng)溫度。
�、跾C-1及SC-2的配置：
我們配制體積比例是1:2:5，所以選取溶液體積為160ml，對SC-1 NH4OH：H2O2：H2O=20:40:100ml，對SC-2 HCl：H2O2：H2O=20:40:100ml。
2.清洗實際步驟：
�、� 1#號槽中放入裝入1號液的燒杯，待溫度與槽中一樣后，放入硅片，加熱10min,然后超純水清洗。
�、� 2#號槽中放入裝入2號液的燒杯，待溫度與槽中一樣后，放入硅片，加熱10min,然后超純水清洗。
�、壅茁暻逑�10分鐘，去除顆粒
�、芾孟嗨葡嗳茉恚褂靡掖既コ袡C物，然后超純水清洗并吹干。
實驗結(jié)果：
利用顯微鏡觀察清洗前后硅片圖像表面
清洗前硅片照片
清洗后的硅片照片
實驗總結(jié)：
清洗過后明顯地發(fā)現(xiàn)硅片表面不像原來那樣油膩，小顆粒明顯減少。說明我們此次使用實驗方法是正確的，實驗結(jié)果較為成功。
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