假設(shè)氫氟酸濃度較大,生成的四氟化硅會形成氟硅酸(H2SiF6) 反應(yīng)條件為常溫，氫氟酸是弱酸,常溫下可以和硅反應(yīng),只不過反應(yīng)速率很小,所以不容易察覺,但是提高溫度時反應(yīng)速度迅速增加二氧化硅能跟其反應(yīng),同樣是四氟化硅是氣體.
2024-07-10
假設(shè)氫氟酸濃度較大,生成的四氟化硅會形成氟硅酸(H2SiF6) 反應(yīng)條件為常溫，氫氟酸是弱酸,常溫下可以和硅反應(yīng),只不過反應(yīng)速率很小,所以不容易察覺,但是提高溫度時反應(yīng)速度迅速增加二氧化硅能跟其反應(yīng),同樣是四氟化硅是氣體.